深紫外激光器：革新技术，推动未来应用

前言

深紫外 (DUV) 激光器是一种先进的光学器件，其发射波长小于 300 纳米 (nm)。这些激光器具有广泛的应用，从半导体制造到医学成像，为多种新兴技术领域带来了革命性变革。

深紫外激光器的原理

DUV 激光器基于非线性光学效应，如频率翻倍和三倍频。它们通常使用诸如氟化氪(KrF) 和氯化准分子 (XeCl) 等准分子气体作为增益介质。当高能电子束或激光脉冲激发这些气体时，它们会产生激发态原子或分子，这些原子或分子随后会发射深紫外光子。

DUV 激光器的特点

DUV 激光器具有以下显着特点：短波长：小于 300 nm 的波长提供了高空间分辨率和精确度。高功率：DUV 激光器可产生高功率输出，使它们适用于高通量应用。短脉冲宽度：纳秒或飞秒范围内的脉冲宽度可实现超快材料加工和成像。良好的单色性：DUV 激光器具有极窄的线宽，这对于光刻和光谱应用至关重要。

DUV 激光器的应用

DUV 激光器在各种行业和应用中发挥着至关重要的作用，包括：

半导体制造

光刻：DUV 激

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